ネオコンバーテック創業論




ネオコンバーテック

 コンバーテックは、フィルム・シート(原反、機能性付与タイプ、多層化タイプなど)、金属箔、紙・板紙、機能紙、不職布、合成紙、繊維、鋼板、炭素繊維複合シート、薄膜ガラス、セラミックシート、発泡シートなどのウェブ・シートをベースとする多彩な要素技術を組み合わせた「集積技術」である表面加工技術(コンバーティング・テクノロジー)のこと。主な産業領域は、「コーティング」「ラミネーティング」「プリンティング」「切る・抜く・巻く」などを駆使したモノ作りであり、コーティング、ラミネーティング、プリンティング(特殊印刷、微細パターン印刷が対象)、スリッティングとして包装、接着、印刷、ラベル、プラスチック、紙、不織布、繊維、ディスプレイ、医療、バイオ、半導体、電子、化学、自動車、建築、機械など広範にまたがる。
 これに対し、ネオコンバーテック(ネオコンバーティングテクノロジー)は、1973年に月刊「紙とプラスチック」を創刊した加工技術研究会が定義した「コンバーテック」を踏まえ、その後誕生したデジタル情報産業革命を担う半導体製造技術と、バイオミミックリを合い言葉に象徴される21世紀の物理学を担うバイオテクノロジーあるいはナノ・テクノロジーとを融合した新しい表面加工技術産業のコア産業技術を「ネオコンバテック」と定義した環境工学研究所WEEF(ウィーフ)により2008年に新事業技術領域として提唱された。






ナノインプリントの現状

今年3月にセミコンダクター・マニュファクチャリング&デザイン(SMD)社は、ナノインプリントリソグラフィツールサプライヤーの分子インプリンツ社(MII)のナノインプリントリソグラフィツールサプライヤー社はマーク・メリア・">


SPIEからの論文がいくつかある。一つは、マルチビームマスク描画装置を開発しているIMSからのもの。IMSは、2015年に12nmのベータツールのためのもの。もう一つは、DNPからのもの。これはインプリントマスクにマスクにダブルパターニングを用いた結果を公表したもの。マスター・マスク上の高価なパターニング行う。そして、レプリケートマスク作成はマスターを使用する。マスターマスクのコストは、維持コストは関係ないが。 DNPはダブルパターニングにより15nmのマスターマスクを公表した。
Q:450ミリメートル市場をターゲットにしている。インテルに450ミリメートルナノインプリントツールを販売しているようだが?
ビットパターンドメディア A:顧客が請求され、受け入れられた450ミリメートルツールを持っていた。顧客が450ミリメートルへの移行を加速したいと考えている。これを行うには、Lam、アプライドとTELのような企業へのパターン付きウェハの提供している。
Q:MIIは、ディスクドライブ業界の話もしている。ナノインプリントは、ビットパターンドメディアへのシフトを対象としているが、どのようなステータスを持っているのか?
A:統合や他のものへの、業界のダイナミクスを考えると(ディスクドライブのメーカー)は、実際はその密度のロードマップを遅延させた。だからその機会は数年シフトさせた。 日立、シーゲイトとウェスタンデジタルは、すべてのナノインプリントを用いたパターンドメディアのプログラムを持っている。
Q:他にどのような市場があるのか?
A:我々が興味を持っているもう一つの分野は、フラットパネルディスプレイの偏光板。光源の前に、スイッチングマトリックス後に偏光板を使用しているが、今は有機膜の偏光板を使用している。いわゆるワイドグリッド偏光板が良い偏光子であることを長い間知られてきたが、それは15nmのライン&スペースにエッチングされたガラス上にアルミニウム膜をのせることで透過率良くしている。その問題解決には当社の強みが生かされている。



 ナノインプリントは、数十?数百nmの凹凸パターンを形成した金型(モールド)を、基材の上の樹脂材料に押し付けて形状を転写する、ナノ構造加工技術である。フォトリソグラフィに比べ低コストで製造できる点やナノレベルの微細パターンを一括形成できる点などから、幅広い分野で利用が検討されており、研究開発が進められている。  ナノインプリント用の材料/転写部材は、現状ではサンプル出荷が中心となっている。2014年頃に本格的に市場が立ち上がると考えられ、2016年には20.0億円に拡大すると予測される。既に実用化している光学ディスプレイ部材用途や、近い将来に実用化される見通しであるLED用途の需要拡大に牽引されて、量産体制の確立とそれに伴う価格の低下が考えられる。量産化に向けては技術的課題が残っているものの、半導体、太陽電池、バイオ・医療関連など潜在的な需要が高い用途への展開が進めば、一層の市場拡大が期待できる。



 以上の例示のように、従来のコンバーティング・テクノロジーすなわち表面加工技術の包括される様々なコーティング技術及び産業は拡大成長を遂げてきたが、デジタル革命のコア技術としての写真製版適用・印刷適用技術、さらにはその応用展開としての半導体製造技術の発展とともにその微細加工技術(中国語で、ミクロメーター・ナノメータは「微」「塵」を意味する)は分子レベルの加工寸法領域までダウンサイジングする。そして、微塵表面加工技術とし、ネオ・コンバーティング・テクノロジーとして21世紀に誕生する。そこでは前述記載記事のように、半導体の微細化、寸法逓減(ダウンサイジング)に伴い製造エネルギー(二酸化炭素排出量)、製造費が逓増していき、もはやム「ムーアの法則の限界」が強く意識されだし、そのリソグラフィを担うコア技術としてのナノインプリントの研究開発に拍車がかけられているというのが現状である。この技術開発の成功は、グリーン(地球温暖化)とコストレス(経済性)の両面に大きく貢献できるものと期待されている。









脚注及びリンク








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